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真空滅弧室的熄弧原理

本文作者:大禹漢光 發(fā)布時(shí)間:2015-10-29

真空滅弧室的的熄弧原理

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  真空滅弧室切斷交流真空電弧成功與否,與觸頭之間弧區(qū)電流過零前的金屬蒸汽濃度密切相關(guān)。當(dāng)電流過零前弧區(qū)的金屬蒸汽濃度很小時(shí),電弧在電流過零時(shí)不足以維持便熄滅;反之當(dāng)電流過零前弧區(qū)的金屬蒸汽濃度很大,在電流過零時(shí)仍足以維持,電弧便不會(huì)熄滅。金屬蒸汽來自觸頭的電弧斑點(diǎn),電弧斑點(diǎn)和金屬蒸汽都隨著電弧電流瞬時(shí)值的增減而變化。

  弧電流過零點(diǎn)前一小段時(shí)間里,觸頭間金屬蒸汽濃度降低的速度取決于電弧斑點(diǎn)的冷卻時(shí)間常數(shù)。小電流真空電弧是一種擴(kuò)散型電弧。對(duì)于擴(kuò)散型電弧,它只有陰極斑點(diǎn)而無陽極斑點(diǎn),各分支電弧均布于觸頭表面上且處于移動(dòng)狀態(tài)。所以觸頭表面電弧斑點(diǎn)熔區(qū)的面積小,深度淺,熱慣性小,其冷卻時(shí)間常數(shù)僅有數(shù)微秒,有足夠的時(shí)間讓陰極斑點(diǎn)冷卻,因此金屬蒸汽濃度低。金屬蒸汽在溫差、濃度差和壓力差的作用下迅速向弧區(qū)外擴(kuò)散。這樣,當(dāng)電弧電流過零時(shí),電弧便不能維持而熄滅。

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